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Öffentliche Ausschreibungen

Titel : DE-Bonn - Industrielle Maschinen
Dokument-Nr. ( ID / ND ) : 2019120309113604867 / 571049-2019
Veröffentlicht :
03.12.2019
Angebotsabgabe bis :
13.01.2020
Dokumententyp : Ausschreibung
Vertragstyp : Lieferauftrag
Verfahrensart : Verhandlungsverfahren
Unterteilung des Auftrags : Gesamtangebot
Zuschlagkriterien : Wirtschaftlichstes Angebot
Produkt-Codes :
42000000 - Industrielle Maschinen
DE-Bonn: Industrielle Maschinen

2019/S 233/2019 571049

Auftragsbekanntmachung

Lieferauftrag
Rechtsgrundlage:
Richtlinie 2014/24/EU

Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber
I.1)Name und Adressen
Offizielle Bezeichnung: Deutsche Forschungsgemeinschaft
Ort: Bonn
NUTS-Code: DEA22
Land: Deutschland
E-Mail: [6]boris.licker@dfg.de

Internet-Adresse(n):

Hauptadresse: [7]http://www.dfg.de
I.2)Informationen zur gemeinsamen Beschaffung
I.3)Kommunikation
Die Auftragsunterlagen stehen für einen uneingeschränkten und
vollständigen direkten Zugang gebührenfrei zur Verfügung unter:
[8]https://www.evergabe-online.de/tenderdetails.html?id=297841
Weitere Auskünfte erteilen/erteilt die oben genannten Kontaktstellen
Angebote oder Teilnahmeanträge sind einzureichen elektronisch via:
[9]https://www.evergabe-online.de/tenderdetails.html?id=297841
I.4)Art des öffentlichen Auftraggebers
Andere: e. V.
I.5)Haupttätigkeit(en)
Andere Tätigkeit: Forschungsförderung

Abschnitt II: Gegenstand
II.1)Umfang der Beschaffung
II.1.1)Bezeichnung des Auftrags:

Beschaffung einer ICP-RIE zum sanften Tiefatzen von
Halbleiter-Nanostrukturen
Referenznummer der Bekanntmachung: EXC 2123/2019 (A 798)
II.1.2)CPV-Code Hauptteil
42000000
II.1.3)Art des Auftrags
Lieferauftrag
II.1.4)Kurze Beschreibung:

Beschaffung einer ICP-RIE zum sanften Tiefatzen von
Halbleiter-Nanostrukturen.
II.1.5)Geschätzter Gesamtwert
II.1.6)Angaben zu den Losen
Aufteilung des Auftrags in Lose: nein
II.2)Beschreibung
II.2.1)Bezeichnung des Auftrags:
II.2.2)Weitere(r) CPV-Code(s)
II.2.3)Erfüllungsort
NUTS-Code: DE91
Hauptort der Ausführung:

TU Braunschweig
II.2.4)Beschreibung der Beschaffung:

Es soll eine ICP-RIE (RIE: Reactive Ion Etching; ICP: Inductively
Coupled Plasma) zum sanften Tiefätzen von Halbleiter-Nanostrukturen
angeschafft werden. Die Anlage soll optimiert sein für das ICP Ätzen
von nitridischen Halbleitern für optoelektronische und elektronische
Anwendungen. Auch Phosphidische und Arsenidische Halbleiter sollen
grundsätzlich bearbeitet werden können.

Die Anlage wird von mehreren Nutzern in einer Umgebung verwendet, in
der sowohl Forschung als auch Kleinserien-Produktion stattfindet. Die
Anlage muss deshalb auf die Bedienung durch mehrere Nutzer ausgelegt
sein.

Im Einzelnen sind folgende Mindestanforderungen zu erfüllen:

Vakuum-Probenschleuse:

Die Anlage benötigt eine Schleuse zum zügigen Ein- und Ausschleusen von
Proben, ohne dass das Vakuum in der Anlage gebrochen werden muss. Die
UHV-seitige Bedienung der Schleuse (Abpumpen, Belüften) muss
automatisiert erfolgen. Das herunterfahren von ggf. Turbo-Pumpen ist in
einem automatisierten, sanften Modus zu gewährleisten,

Sicherheitsabschaltung:

Die gesamte Anlage muss eine automatische Prozedur zum sicheren
Herunterfahren der Anlage und aller Pumpen und sonstiger Systeme der
Anlage besitzen,

Probengröße:

Der Reaktor muss Proben bis zu einem Durchmesser von mindestens 200 mm
(8 Zoll) verarbeiten können,

Wafer-Temperatur:

Zur Kontrolle der Wafer-Temperatur ist neben einer Heizung auch eine
Helium-Rückseitenkühlung notwendig,

Gas-Handling-System:

Für die geplanten Prozesse werden mindestens 6 MFC-geregelte
Gasleitungen benötigt, davon mindestens 2 mit Bypass für korrosive
Medien (in diesem Fall: Cl2 und BCl3),

HF-Leistung:

Die maximale HF-Leistung (Substratelektrode) muss mindestens 300 W, die
maximale ICP-Leistung mindestens 1 200 W betragen,

Anlagensteuerung und Prozesskontrolle:

Automatisierte Steuerungsmöglichkeiten müssen vorhanden sein (PC, inkl.
Software). Der Prozess muss zur besseren Reproduzierbarkeit automatisch
überwacht werden (z. B. die Einhaltung der Setpoints) und die
Prozessdaten müssen für eine spätere Auswertung möglichst detailliert
dauerhaft gespeichert werden können. Ein Blindflansch (später dann mit
Quarzglasfenster auszustatten) sollte bereitstehen, damit später eine
optische Emissions-Spektroskopie-Analyse nachgerüstet werden kann,

Größe des Geräts:

Die Größe des Geräts (ohne zusätzliche Aufbauten wie z. B. Pumpen oder
Kontrollracks) sollte möglichst kompakt sein und die Breite/Länge
sollte 1000 mm/2000 mm keinesfalls überschreiten. Eine oder mehrere
Seitenwände des Geräts (zumindest eine der Längsseiten) sollte in die
Reinraumwand integrierbar sein. Der Bereich um das Gerät, der zur
Wartung und Reparatur benötigt wird, sollte eine Breite von 80 cm um
das Gerät herum nicht überschreiten,

Prozess-Spezifikationen:

Wir erwarten, dass der Hersteller Standard-Rezepte, insbesondere zum
Ätzen von AlGaN, GaN, InGaN, und zum Reinigen des Reaktors mitliefert
und auch vor Ort demonstriert. Key Performance Indicators des
Ätzprozesses sind anzugeben,

Abgasreinigung und Sicherheit:

Ein Abgasreinigungssystem inklusive Sicherheitsvorrichtungen ist für
den Betrieb der Anlage unabdingbar und sollte direkt vom Hersteller mit
angeboten werden, da dieser am besten weiß, welche Reinigungssysteme
die gesetzlichen Anforderungen am besten erfüllen,

Spezifizierte Prozesse:

Folgende Prozesse müssen in der Anlage durchführbar sein: GaN
(Al0.7Ga0.3N) mit SiOx oder SiN Masken muss mit Raten von mindestens
0,5 m/min (0,3 m/min) geätzt werden können. Die Selektivität von GaN
zur SiOx und SiN Maske sollte mindestens 5:1 (3:1) oder höher sein. Der
Flankenwinkel der tiefgeätzten GaN Strukturen sollte mindestens 85^o
betragen. Die RMS Rauheit der GaN Oberfläche nach dem Ätzen (mit einer
Ätztiefe von mindestens 1 m) sollte geringer als 10 nm sein.
II.2.5)Zuschlagskriterien
Die nachstehenden Kriterien
Qualitätskriterium - Name: technischer Wert / Gewichtung: 50
Preis - Gewichtung: 50
II.2.6)Geschätzter Wert
II.2.7)Laufzeit des Vertrags, der Rahmenvereinbarung oder des
dynamischen Beschaffungssystems
Laufzeit in Tagen: 1
Dieser Auftrag kann verlängert werden: nein
II.2.9)Angabe zur Beschränkung der Zahl der Bewerber, die zur
Angebotsabgabe bzw. Teilnahme aufgefordert werden
II.2.10)Angaben über Varianten/Alternativangebote
Varianten/Alternativangebote sind zulässig: ja
II.2.11)Angaben zu Optionen
Optionen: nein
II.2.12)Angaben zu elektronischen Katalogen
II.2.13)Angaben zu Mitteln der Europäischen Union
Der Auftrag steht in Verbindung mit einem Vorhaben und/oder Programm,
das aus Mitteln der EU finanziert wird: nein
II.2.14)Zusätzliche Angaben

Abschnitt III: Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische
Angaben
III.1)Teilnahmebedingungen
III.1.1)Befähigung zur Berufsausübung einschließlich Auflagen
hinsichtlich der Eintragung in einem Berufs- oder Handelsregister
III.1.2)Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit
III.1.3)Technische und berufliche Leistungsfähigkeit
III.1.5)Angaben zu vorbehaltenen Aufträgen
III.2)Bedingungen für den Auftrag
III.2.2)Bedingungen für die Ausführung des Auftrags:

Vorsorglich weisen wir darauf hin, dass eine Auftragsvergabe nur auf
der Grundlage der beigefügten Allgemeinen Geschäftsbedingungen für
Lieferungen und Leistungen erfolgen wird. Deren Akzeptanz ist mit dem
Teilnahmeantrag zu bestätigen.
III.2.3)Für die Ausführung des Auftrags verantwortliches Personal

Abschnitt IV: Verfahren
IV.1)Beschreibung
IV.1.1)Verfahrensart
Verhandlungsverfahren
IV.1.3)Angaben zur Rahmenvereinbarung oder zum dynamischen
Beschaffungssystem
IV.1.4)Angaben zur Verringerung der Zahl der Wirtschaftsteilnehmer oder
Lösungen im Laufe der Verhandlung bzw. des Dialogs
IV.1.5)Angaben zur Verhandlung
IV.1.6)Angaben zur elektronischen Auktion
IV.1.8)Angaben zum Beschaffungsübereinkommen (GPA)
Der Auftrag fällt unter das Beschaffungsübereinkommen: nein
IV.2)Verwaltungsangaben
IV.2.1)Frühere Bekanntmachung zu diesem Verfahren
IV.2.2)Schlusstermin für den Eingang der Angebote oder Teilnahmeanträge
Tag: 13/01/2020
Ortszeit: 12:00
IV.2.3)Voraussichtlicher Tag der Absendung der Aufforderungen zur
Angebotsabgabe bzw. zur Teilnahme an ausgewählte Bewerber
IV.2.4)Sprache(n), in der (denen) Angebote oder Teilnahmeanträge
eingereicht werden können:
Deutsch
IV.2.6)Bindefrist des Angebots
IV.2.7)Bedingungen für die Öffnung der Angebote

Abschnitt VI: Weitere Angaben
VI.1)Angaben zur Wiederkehr des Auftrags
Dies ist ein wiederkehrender Auftrag: nein
VI.2)Angaben zu elektronischen Arbeitsabläufen
VI.3)Zusätzliche Angaben:
VI.4)Rechtsbehelfsverfahren/Nachprüfungsverfahren
VI.4.1)Zuständige Stelle für Rechtsbehelfs-/Nachprüfungsverfahren
Offizielle Bezeichnung: Bundeskartellamt Vergabekammer des Bundes
Ort: Bonn
Land: Deutschland
VI.4.2)Zuständige Stelle für Schlichtungsverfahren
VI.4.3)Einlegung von Rechtsbehelfen
VI.4.4)Stelle, die Auskünfte über die Einlegung von Rechtsbehelfen
erteilt
VI.5)Tag der Absendung dieser Bekanntmachung:
02/12/2019

References

6. mailto:boris.licker@dfg.de?subject=TED
7. http://www.dfg.de/
8. https://www.evergabe-online.de/tenderdetails.html?id=297841
9. https://www.evergabe-online.de/tenderdetails.html?id=297841

 
 
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