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Öffentliche Ausschreibungen

Titel : DE-München - Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke
Dokument-Nr. ( ID / ND ) : 2017031609025308831 / 97559-2017
Veröffentlicht :
16.03.2017
Angebotsabgabe bis :
n.ow.Unkn
Dokumententyp : Vorinformation
Vertragstyp : Lieferauftrag
Unterteilung des Auftrags : Gesamtangebot
Zuschlagkriterien : Unbestimmt
Produkt-Codes :
42990000 - Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke
DE-München: Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke

2017/S 53/2017 97559

Vorinformation

Diese Bekanntmachung dient der Verkürzung der Frist für den Eingang der
Angebote

Lieferauftrag
Richtlinie 2014/24/EU

Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber
I.1)Name und Adressen
Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V.
über Vergabeportal eVergabe
Hansastr. 27 c
München
80686
Deutschland
E-Mail: [1]fraunhofer@deutsche-evergabe.de
NUTS-Code: DE212

Internet-Adresse(n):

Hauptadresse: [2]http://www.fraunhofer.de

Adresse des Beschafferprofils: [3]http://www.deutsche-evergabe.de/
I.2)Gemeinsame Beschaffung
I.3)Kommunikation
Weitere Auskünfte erteilen/erteilt die oben genannten Kontaktstellen
Angebote oder Teilnahmeanträge sind einzureichen an die oben genannten
Kontaktstellen
I.4)Art des öffentlichen Auftraggebers
Andere: Forschungsgesellschaft e. V.
I.5)Haupttätigkeit(en)
Andere Tätigkeit: Forschung und Entwicklung

Abschnitt II: Gegenstand
II.1)Umfang der Beschaffung
II.1.1)Bezeichnung des Auftrags:

Nasschemische Reinigungs- und Ätzbank für dicke und gedünnte SiC-Wafer.
Referenznummer der Bekanntmachung: E_079_229505 grg-AHö FMD
II.1.2)CPV-Code Hauptteil
42990000
II.1.3)Art des Auftrags
Lieferauftrag
II.1.4)Kurze Beschreibung:

Nasschemische Reinigungs- und Ätzbank für dicke und gedünnte SiC-Wafer.
II.1.5)Geschätzter Gesamtwert
II.1.6)Angaben zu den Losen
Aufteilung des Auftrags in Lose: ja
Angebote sind möglich für alle Lose
II.2)Beschreibung
II.2.1)Bezeichnung des Auftrags:

Nasschemische Reinigungsbank
Los-Nr.: 1
II.2.2)Weitere(r) CPV-Code(s)
42990000
II.2.3)Erfüllungsort
NUTS-Code: DE252
Hauptort der Ausführung:

91058 Erlangen.
II.2.4)Beschreibung der Beschaffung:

Zur Herstellung von Leistungsbauelemente auf SiC Wafer ist nach fast
jedem Fertigungsprozessschritt eine nasschemische Reinigung nötig. Dies
geschieht normalerweise in Reinigungsbänken, in denen bis zu 25 Wafer
gleichzeitig gereinigt werden können. Nach bestimmten
Fertigungsprozessschritten ist es aber besser eine
Einzelscheibenreinigung durchzuführen. Dazu wird folgende Anlage
benötigt: Einzelwaferanlage für SiC-Scheiben mit 100 und 150mm
(aufrüstbar auf 200 mm) und für 9" quadratische Substrate zur
nasschemischen Reinigung; Chemieversorgung (TMAH und H2SO4) durch
Drucktanks, Manuelle Befüllung, CO2 Bubbler, Vorwärmung H2SO4 auf 70°C,
Vorwärmung DI-Wasser auf 70°C, automatische Spüllung und Neutralisation
der Reinigungskammer, einfacher Chuck-Tausch, Reinraumkompatibilität,
Computergesteuert, CE-Kennzeichnung.
II.2.5)Zuschlagskriterien
II.2.6)Geschätzter Wert
II.2.7)Laufzeit des Vertrags, der Rahmenvereinbarung oder des
dynamischen Beschaffungssystems
Laufzeit in Monaten: 8
II.2.10)Angaben über Varianten/Alternativangebote
II.2.11)Angaben zu Optionen
II.2.13)Angaben zu Mitteln der Europäischen Union
Der Auftrag steht in Verbindung mit einem Vorhaben und/oder Programm,
das aus Mitteln der EU finanziert wird: nein
II.2.14)Zusätzliche Angaben
II.2)Beschreibung
II.2.1)Bezeichnung des Auftrags:

Nasschemische Ätzbank
Los-Nr.: 2
II.2.2)Weitere(r) CPV-Code(s)
42990000
II.2.3)Erfüllungsort
NUTS-Code: DE252
Hauptort der Ausführung:

91058 Erlangen.
II.2.4)Beschreibung der Beschaffung:

Zur Herstellung von niederohmigen Widerständen auf SiC Wafer ist das
Metall Nickel oder Nickelverbindungen nötig. Da dieses Metall weder
nasschemisch noch trockenchemisch gut zu strukturieren ist, verwendet
man zur Strukturierung dieses Metalls den sogenannten Lift-off Prozess.
Bei diesem Prozess wird das Metall auf eine strukturierte
Photolackschicht aufgebracht und anschließend wird der Photolack wieder
entfernt und damit der Teil der Nickelschicht, die auf dem
strukturierten Photolack abgeschieden wurde. Dazu wird eine Anlage
benötigt, mit der dies problemlos durchzuführen ist.

Einzelwaferanlage für SiC-Scheiben mit 100 und 150mm (aufrüstbar auf
200 mm); Einsatz von umweltverträglichen Lösungsmittel, Hochdruckpumpe
für die Lösungsmittel, Rezirkulation und Filtration der Lösungsmittel,
Temperierung der Lösungsmittel, Reinraumkompatibilität,
Computergesteuert, CE-Kennzeichnung.
II.2.5)Zuschlagskriterien
II.2.6)Geschätzter Wert
II.2.7)Laufzeit des Vertrags, der Rahmenvereinbarung oder des
dynamischen Beschaffungssystems
Laufzeit in Monaten: 8
II.2.10)Angaben über Varianten/Alternativangebote
II.2.11)Angaben zu Optionen
II.2.13)Angaben zu Mitteln der Europäischen Union
Der Auftrag steht in Verbindung mit einem Vorhaben und/oder Programm,
das aus Mitteln der EU finanziert wird: nein
II.2.14)Zusätzliche Angaben
II.3)Voraussichtlicher Tag der Veröffentlichung der
Auftragsbekanntmachung:
20/04/2017

Abschnitt III: Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische
Angaben
III.1)Teilnahmebedingungen
III.1.1)Befähigung zur Berufsausübung einschließlich Auflagen
hinsichtlich der Eintragung in einem Berufs- oder Handelsregister
III.1.2)Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit
III.1.3)Technische und berufliche Leistungsfähigkeit
III.1.5)Angaben zu vorbehaltenen Aufträgen
III.2)Bedingungen für den Auftrag
III.2.2)Bedingungen für die Ausführung des Auftrags:
III.2.3)Für die Ausführung des Auftrags verantwortliches Personal

Abschnitt IV: Verfahren
IV.1)Beschreibung
IV.1.3)Angaben zur Rahmenvereinbarung oder zum dynamischen
Beschaffungssystem
IV.1.6)Angaben zur elektronischen Auktion
IV.1.8)Angaben zum Beschaffungsübereinkommen (GPA)
Der Auftrag fällt unter das Beschaffungsübereinkommen: ja
IV.2)Verwaltungsangaben
IV.2.5)Voraussichtlicher Beginn der Vergabeverfahren:

Abschnitt VI: Weitere Angaben
VI.2)Angaben zu elektronischen Arbeitsabläufen
VI.3)Zusätzliche Angaben:

Detaillierung erfolgt mit der Veröffentlichung des Vergabeverfahrens.
VI.4)Rechtsbehelfsverfahren/Nachprüfungsverfahren
VI.4.1)Zuständige Stelle für Rechtsbehelfs-/Nachprüfungsverfahren
Vergabekammer des Bundes beim Bundeskartellamt
Villemombler Straße 76
Bonn
53123
Deutschland
VI.4.2)Zuständige Stelle für Schlichtungsverfahren
VI.4.3)Einlegung von Rechtsbehelfen
Genaue Angaben zu den Fristen für die Einlegung von Rechtsbehelfen:

Solange ein wirksamer Zuschlag (Vertragsschluss) noch nicht erteilt
ist, kann als Rechtsbehelf ein Nachprüfungsantrag bei der unter VI.4.1)
genannten Stelle gestellt werden. Bewerber/Bieter müssen
Vergaberechtsverstöße unverzüglich bei der unter I.1) genannten
Vergabestelle rügen, bevor sie einen Nachprüfungsantrag stellen. Wir
weisen ausdrücklich auf die Antragsfrist des § 160 Gesetz gegen
Wettbewerbsbeschränkungen (GWB) hin. Bieter, deren Angebote nicht
berücksichtigt werden soll, werden vor dem Zuschlag gem. § 134 GWB
informiert.
VI.4.4)Stelle, die Auskünfte über die Einlegung von Rechtsbehelfen
erteilt
VI.5)Tag der Absendung dieser Bekanntmachung:
14/03/2017

References

1. mailto:fraunhofer@deutsche-evergabe.de?subject=TED
2. http://www.fraunhofer.de/
3. http://www.deutsche-evergabe.de/

 
 
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